光學(xué)平臺的重要位置

    光學(xué)平臺廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、精密機(jī)械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測 等領(lǐng)域，以及其他機(jī)械行業(yè)的精密試驗儀器、設(shè)備振動隔離的關(guān)鍵裝置中，其動態(tài)力學(xué)特性的好壞直接影響實驗結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。儀器設(shè)備的微振動直接影響 精密儀器設(shè)備的測量精度。隨著精密隔振要求的提升，需要不斷提高光學(xué)平臺的振動隔離技術(shù)。
    防塵光學(xué)元件表面落入灰塵，不僅影響光線通過，而且經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)放大后，會生成很大的污斑，影響觀察。灰塵、砂粒落入機(jī)械部分，還會增加磨損，引起運動受阻，危害同樣很大。有較頑固的污跡，可用長纖維脫脂棉或干凈的細(xì)棉布蘸少些二甲笨或鏡頭清洗液（3份酒精∶1份乙醚）擦拭，然后用干凈細(xì)軟的綢布擦干或用吹風(fēng)球吹干。
    現(xiàn)代光學(xué)技術(shù)在科研、國防、工業(yè)、農(nóng)業(yè)、能源等方面越來越突顯其重要性，光學(xué)顯示、光信息記錄與存儲、光通信已成為現(xiàn)代高科技產(chǎn)業(yè)的重要支柱之一，而在光學(xué)及光電子技術(shù)發(fā)展和應(yīng)用中，精密光學(xué)儀器與系統(tǒng)是zui重要的組成部分。各類光學(xué)儀器的設(shè)計與制造，新型光學(xué)系統(tǒng)的研究應(yīng)用、測試評價方法，光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)品質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)語控制等都需要使用高質(zhì)量的精密光學(xué)器件，從而生產(chǎn)出新型的光學(xué)系統(tǒng)以滿足國民經(jīng)濟(jì)各方面應(yīng)用的需要。